Intel ujawnia szczegóły najnowszej mikroarchitektury

Fot. Intel

Santa Clara, Stany Zjednoczone, 12 sierpnia 2014 – Intel ujawnił szczegóły swojej najnowszej mikroarchitektury oraz wiodącego, 14-nanometrowego procesu technologicznego. Połączenie tych dwóch technologii zapewni wysoką wydajność przy niskim zapotrzebowaniu na energię, co znajdzie zastosowanie w szerokim spektrum usług i produktów komputerowych – od infrastruktury dla chmury i Internetu rzeczy po urządzenia mobilne i komputery osobiste.

Najważniejsze informacje:

  • Intel ujawnił szczegóły mikroarchitektury procesora Intel® Core™ M – pierwszego produktu wyprodukowanego w 14-nanometrowym procesie technologicznym.

 

  • Połączenie nowej mikroarchitektury i nowego procesu technologicznego zapoczątkuje falę innowacji i umożliwi powstawanie nowych rodzajów urządzeń, cieńszych i cichszych od obecnych, by zapewnić użytkownikom jeszcze lepsze doświadczenia

 

  • Architekci i projektanci Intela dokonali ponad dwukrotnego zmniejszenia współczynnika TDP w porównaniu do procesorów poprzedniej generacji. Jednocześnie zachowali podobną wydajność i zwiększyli czas pracy na baterii.

 

  • Nowa mikroarchitektura została zoptymalizowana w taki sposób, by mogła w pełni wykorzystać potencjał nowego, 14-nanometrowego procesu technologicznego.

 

  • Intel jako pierwszy na świecie zastosował 14-nanometrową technologię produkcji na skalę przemysłową. Wykorzystuje ona tranzystory Tri-gate (FinFET) drugiej generacji o najlepszej wydajności, mocy, gęstości oraz cenie.

 

  • 14-nanometrowa technologia Intela będzie używana do produkcji szerokiego wachlarza produktów o wysokiej wydajności i niskim zapotrzebowaniu na energię, takich jak serwery, PC czy urządzenia współtworzące Internet Rzeczy.

 

  • Pierwsze urządzenia pracujące na procesorze Intel® Core™ M trafią na półki w okresie świątecznym, a staną się szeroko dostępne w ofercie wiodących producentów OEM w pierwszej połowie 2015 roku.

 

  • Kolejne produkty oparte na mikroarchitekturze Broadwell i 14-nanometrowym procesie technologicznym zostaną przedstawione w nadchodzących miesiącach.

 

  • Więcej informacji: http://intel.ly/1sEBd1e

 

„Zintegrowany model Intela – połączenie naszego doświadczenia w projektowaniu rozwiązań i najlepszego procesu technologicznego – umożliwia oferowanie klientom rozwiązań o lepszej wydajności oraz niższym poborze energii” –  powiedziała Rani Borkar, wiceprezes i dyrektor generalny, Product Development, Intel. „Nowa mikroarchitektura to coś więcej niż tylko istotne osiągnięcie technologiczne. To wyraz tego jak ważna jest dla naszej firmy filozofia projektowania w celu spełnienia potrzeb klientów”.

„14-nanometrowa technologia Intela wykorzystuje tranzystory Tri-gate drugiej generacji o wiodącej wydajności, mocy, gęstości oraz cenie” – powiedział Mark Bohr, Intel Senior Fellow, Technology and Manufacturing Group oraz dyrektor, Process Architecture and Integration. „Nasze osiągnięcia związane z nowym procesem technologicznym są efektem inwestycji Intela i stałego podążania za prawem Moore’a”.